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          光催化氧化設(shè)備的工藝原理具體介紹如下：
          1.利用高能高臭氧紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。
          2.高能離子空氣凈化系采用正負雙極電離技術(shù)，在電場作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的a粒子，a粒子與空氣中的氧分子進行碰撞而形成正負氧離子。
          3.催化劑（二氧化鈦）在受到紫外線光照射時生成化學活潑性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機物，達到降解有機物的作用。
          4.無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應的排風管道和排風動力，使氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學反應。
          5.運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低。